Виробництво напівпровідників накладає надзвичайно вимогливі вимоги до чистоти матеріалів, термічної стійкості, стійкості до плазмового травлення та механічної точності. Завдяки високому опору (>10¹⁴ Ω•cm), високій теплопровідності, низькому тепловому розширенню, відмінній диелектричному міцності та стійкості до травлення плазмою фтору, нітрид кремнію став незамінним точним керамічним компонентом у обладнанні для обробки пластин. Порівняно з алюмінієм і кварцом, компоненти нітриду кремнію значно зменшують забруднення частинками, подовжують інтервали обслуговування, підвищують текучу та підтримують більш сучасні технологічні вузли. Водночас їхня теплопровідність і міцність на високих температурах дозволяють нагрівальним елементам швидше реагувати та створювати більш рівномірний розподіл температури, допомагаючи напівпровідниковому обладнанню розвиватися до більшої потужності та меншого енергоспоживання.
Розроблені для високотемпературних і чистих умов, таких як швидка термічна обробка (RTP), нагрівачі MOCVD та плазмові нагрівальні пластини. Кремнієві нітридні нагрівальні пластини можна виготовляти як монолітні нагрівальні елементи, друкуючи резистивну пасту на внутрішньому або зовнішньому обкладинці керамічних підкладок, забезпечуючи відмінну теплоплавність, швидкі температури нагрівання, стійкість до корозії та відсутність забруднення металами. Порівняно з традиційними металевими нагрівачами, нагрівальні елементи нітриду кремнію забезпечують більш ніж на 20% вищу теплову ефективність, що дозволяє точніше контролювати температуру процесу пластин і запобігає забрудненню іонами металів. Вони підходять для використання у більш вимогливих процесах виробництва напівпровідників наступного покоління.
